Fabio Isa. Nato a Monza, ha conseguito la laurea magistrale in Scienza dei Materiali presso l’Università degli studi di Milano Bicocca. Attualmente frequenta il secondo anno di dottorato, XXVI ciclo, in Fisica presso il Politecnico di Milano - polo territoriale di Como. L’attività principale della sua ricerca è la crescita eteroepitassiale di leghe silicio-germanio, con tecnica Low Energy Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, su substrati patternati di silicio ad alto aspect ratio.Fabio Isa was born in Monza and obtained his degree in Materials Science at the University of Milan Bicocca. Currently he is in his second year of a doctorate in Physics at the Politecnico of Milan. The main focus of his research is the heteroepitaxial growth of silicon-germanium alloys, with Low Energy Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition techniques, on silicon substrates with high aspect ratio.
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